Laboratório de Micro e Nanofabricação

Local: sala 116 (CCE).
Telefone: (31) 3612-6271.
Professores responsáveis:  Clodoaldo I. L. de Araujo e Eduardo Nery Duarte de Araújo

Este laboratório é equipado com um ambiente de sala limpa classe 1000 e toda a linha de produção de sistemas micro e nanoestrturados. Sua finalidade é a de desenvolver dispositivos nas escalas micro e nano, que atendam a todas as necessidades dos grupos de pesquisas da UFV e do estado de minas gerais, uma vez que está associado ao projeto Sisnano da UFV e é polo da rede mineira de nanomagnetismo.

Infra-estrutura

Capela química com fluxo laminar

Proporciona um ambiente de limpeza classe 100, equipada com spin coater e chapa quente para realização dos processos de deposição de foto e eletroresiste e sua revelação.

Mask Ploter

Utilizada para realização de máscaras com resolução de 5 micron, para produção de protótipos ou dispositivos em série.

Mask aligner

Realiza a transferência dos padrões micrométricos para o fotoresiste através de sensibilização luminosa.

Vapor prime

Utilizado para promoção de limpeza e aderência dos substratos em etapa anterior a deposição do eletro ou fotoresiste ou para reversão dos padrões transferidos, por utilização de gás amônia.

Microscópio ótico

Análise da qualidade das litografias e dos processos finais.

Plasma de oxigênio

Utilizado para limpeza dos substratos em etapa anterior ao vapor prime ou para finalização e melhoria após a revelação do eletro ou fotoresiste.

Ion milling e sputtering

Utilizado no desbaste físico de materiais pela utilização de plasma de argônio, este equipamento é fundamental para realização de processos refinados de fabricação.

Bancada eletroquímica

Crescimento e desbaste de materiais micro e nanoestruturados, por técnicas de eletrodeposição e corrosão em ambiente limpo.